一、设备概述
平行光曝光机专门用于FILM黄光制程而设计制作的专用设备，系统采用

进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行FILM湿膜、干膜

曝光。双工位平台真空吸附将FILM与MASK贴紧，曝光解析度20UM。

二、设备规格以及主要技术指标

◆曝光控制:智慧型人机界面及曝光能 量控制(能 量模式及时间模式)
◆灯源: UV能 量积分器进行曝光能 量设置和控制主动风冷式降温保护(有紧急停止保护)
◆平行光曝光机空压系统: 4-7KF/CM2,中12MM, 200L /MIN
◆平行半角: DA<2。
◆平台真空:平台真空将FILM与MASK贴紧(使用鉻版时可不用）
◆平台进出曝光区:上下框架交替进出
◆机内环境: CL ASS100内检测系统:程序及传感器检测动作到位状况
◆平行光曝光机灯管保护:灯室过热检知及门打开时UV灯强制熄灭