曝光机从供应商与服务能力需要考虑哪些因素

优先选择在目标领域有成熟案例的供应商： PCB 行业：考察是否供应过深南电路、沪电股份等企业； 半导体行业：需具备 SEMI 标准认证，且有晶圆厂供货经验。

曝光设备结构与自动化配置

接触式曝光：掩膜版与基板直接贴合，分辨率高但掩膜版易损耗，适合小批量打样。 非接触式曝光：接近式（间隙 5-50μm）：减少掩膜磨损，适合中大批量生产； 投影式（如扫描曝光）：无接触损耗，适合高精度连续生产（如 FPC 卷对卷工艺）。

曝光机从核心技术参数与工艺匹配需要考虑哪些因素

汞灯曝光机：光谱覆盖 300-450nm，光强高（≥100mW/cm²），适合厚膜光刻（如 PCB 阻焊层），但能耗高（单机功率 1-3kW）、寿命短（800-1500 小时）。 UV-LED 曝光机：单色光（如 365nm/395nm），能耗低（省电 30%-50%）、寿命长（20000 小时），适合高精度薄膜光刻（如半导体掩膜版），但光强均匀性要求更高。

硅胶行业的全新解决方案

在这个追求高效与品质并存的时代，正凯机电硅胶改质机以它的智慧与创新，为硅胶行业带来了全新的解决方案！

东莞市产业转型升级对正凯机电的影响

东莞市进行产业升级对正凯机电的影响是深远的，主要体现在以下几个方面： 首先，产业升级有助于提升我们公司的竞争力。随着全球化和市场竞争的加剧，传统制造业面临越来越多的挑战。通过产业升级，我们公司需要提高生产效率、降低成本，从而提升产品质量和市场竞争力。

分片覆膜裁切机—打造高效覆膜新时代！

在这个快速发展的时代，如何提高生产效率、降低成本已成为各行业的共同追求。为了满足客户对玻璃双面覆膜的新需求，正凯机电隆重推出ZKFM-600-2分片覆膜裁切机，以其的性能和高效的生产能力，为客户的生产线注入新的活力！