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黄光制程/双工位曝光机
发布时间：2021-10-07 08:40:55 人气：
平行光源单面双工位曝光机专门用于FILM黄光制程而设计制作的专用设备，系统采用进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行FILM湿膜、干膜曝光。
设备特点
1.双工位曝光机双工位平台真空吸附将FILM与MASK贴紧，曝光解析度20UM。
2.采用进口曲面MIRROR反射光学系统，曝光均匀度: > 90%
3.灯源: UV能量积分器进行曝光能量设置和控制主动风冷式降温保护(有紧急停止保护)
4.智慧型人机界面及曝光能量控制(能量模式及时间模式)
5.双工位曝光机平台真空将FILM与MASK贴紧(使用鉻版时可不用）
设备型号：ZKUE-M552
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