工业烤箱多功能工艺适配性

电加热：热效率≥90%，升温速度快（室温至 150℃≤15 分钟），适合精密控温场景； 燃气加热：运行成本较电加热低 30%~50%，适合高温大能耗工艺（如钢材退火）； 红外加热：短波红外可穿透涂层直接加热基材，干燥时间缩短 50%（如锂电池极片烘干）。

烤箱生产效率与产能优势

小型烤箱：容积 50~100L，适合实验室打样； 工业级烤箱：容积 1000~5000L（如汽车配件烘干线），单次可处理数百件工件，产能较传统自然干燥提升 10 倍以上。

工业烤箱控温与均匀性保障

控温范围广：常规工业烤箱温度范围为室温～300℃，高温型可达 500℃以上（如陶瓷烧结用烤箱），满足不同材料的热处理需求。

曝光机从特殊场景适配需求需要考虑哪些因素

汞灯机型需配备 UV 防护罩（紫外线泄漏≤1μW/cm²）； 溶剂型光刻胶曝光时需加装废气处理装置（VOCs 去除率≥90%）。

曝光机从供应商与服务能力需要考虑哪些因素

优先选择在目标领域有成熟案例的供应商： PCB 行业：考察是否供应过深南电路、沪电股份等企业； 半导体行业：需具备 SEMI 标准认证，且有晶圆厂供货经验。

曝光设备结构与自动化配置

接触式曝光：掩膜版与基板直接贴合，分辨率高但掩膜版易损耗，适合小批量打样。 非接触式曝光：接近式（间隙 5-50μm）：减少掩膜磨损，适合中大批量生产； 投影式（如扫描曝光）：无接触损耗，适合高精度连续生产（如 FPC 卷对卷工艺）。