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优先选择在目标领域有成熟案例的供应商: PCB 行业:考察是否供应过深南电路、沪电股份等企业; 半导体行业:需具备 SEMI 标准认证,且有晶圆厂供货经验。
了解详情接触式曝光:掩膜版与基板直接贴合,分辨率高但掩膜版易损耗,适合小批量打样。 非接触式曝光:接近式(间隙 5-50μm):减少掩膜磨损,适合中大批量生产; 投影式(如扫描曝光):无接触损耗,适合高精度连续生产(如 FPC 卷对卷工艺)。
了解详情汞灯曝光机:光谱覆盖 300-450nm,光强高(≥100mW/cm²),适合厚膜光刻(如 PCB 阻焊层),但能耗高(单机功率 1-3kW)、寿命短(800-1500 小时)。 UV-LED 曝光机:单色光(如 365nm/395nm),能耗低(省电 30%-50%)、寿命长(20000 小时),适合高精度薄膜光刻(如半导体掩膜版),但光强均匀性要求更高。
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