平行光源单面双工位曝光机专为FILM(干膜/湿膜)黄光制程开发,采用进口平行光源与双工位交替曝光平台。系统具备Class 100级洁净环境、真空吸附与精密温控,满足微米级线路的 光需求。
核心系统与特性:
◆精度平行光曝光:采用进口5KW平行光曝光灯及曲面反射光学系统,平行半角DA<2°,确保光线垂直度,实现线宽/线距30μm的精密图形曝光。
◆双工位设计:两组玻璃对玻璃曝光平台(真空吸附)交替进出曝光区,实现取放片与曝光过程并行,大幅提升设备综合利用率与生产节拍。
◆稳定可靠的运行环境:曝光平台平面精度达0.02mm以内,配备≥400mmHg的真空吸附系统,确保FILM与MASK紧密贴合;机内维持Class 100洁净度,冰水系统精确控温,保障工艺稳定性。
◆智能安全控制:配备动作到位传感器、灯室过热保护及门开灯熄等连锁安全装置,采用程序化控制,操作安全可靠。
主要技术规格:
a.有效曝光面积:400mm × 500mm
b.曝光平台:>500mm × 600mm(双工位)
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