产品资讯

    平行光源单面双工位曝光机:专为FILM黄光制程设计的精度曝光系统

    来源:www.dgzkjd.com 发布时间:2025-12-17 20:22:04
    平行光源单面双工位曝光机专为FILM(干膜/湿膜)黄光制程开发,采用进口平行光源与双工位交替曝光平台。系统具备Class 100级洁净环境、真空吸附与精密温控,满足微米级线路的 光需求。
    核心系统与特性:
    ◆精度平行光曝光:采用进口5KW平行光曝光灯及曲面反射光学系统,平行半角DA<2°,确保光线垂直度,实现线宽/线距30μm的精密图形曝光。
    ◆双工位设计:两组玻璃对玻璃曝光平台(真空吸附)交替进出曝光区,实现取放片与曝光过程并行,大幅提升设备综合利用率与生产节拍。
    ◆稳定可靠的运行环境:曝光平台平面精度达0.02mm以内,配备≥400mmHg的真空吸附系统,确保FILM与MASK紧密贴合;机内维持Class 100洁净度,冰水系统精确控温,保障工艺稳定性。
    ◆智能安全控制:配备动作到位传感器、灯室过热保护及门开灯熄等连锁安全装置,采用程序化控制,操作安全可靠。
    主要技术规格:
    a.有效曝光面积:400mm × 500mm

    b.曝光平台:>500mm × 600mm(双工位)

    东莞市正凯机电设备有限公司主要从事TP、LCD、FPC、PCB等行业设备的生产厂家。公司拥有一批工程师及技术骨干,有20多年的研发、设计、制作设备的经验,为给客户提供售后服务并拓展业务,我公司还在江苏、福建均设有分公司。公司秉承“科技创新、诚信为本”的经营理念,以客户为中心,为客户服务为宗旨,全力以赴、快速反应,持续改善让客户满意,与合作伙伴们共同发展壮大。有需要的客户可以直接联系我们。平行光源单面双工位曝光机

    上一条:洁净度双门工业烤箱:专为精密制程设计...

    下一条:实验室级洁净烤箱:精密电子制程专用烘...