工业烤箱多功能工艺适配性

电加热：热效率≥90%，升温速度快（室温至 150℃≤15 分钟），适合精密控温场景； 燃气加热：运行成本较电加热低 30%~50%，适合高温大能耗工艺（如钢材退火）； 红外加热：短波红外可穿透涂层直接加热基材，干燥时间缩短 50%（如锂电池极片烘干）。

工业烤箱控温与均匀性保障

控温范围广：常规工业烤箱温度范围为室温～300℃，高温型可达 500℃以上（如陶瓷烧结用烤箱），满足不同材料的热处理需求。

曝光机从供应商与服务能力需要考虑哪些因素

优先选择在目标领域有成熟案例的供应商： PCB 行业：考察是否供应过深南电路、沪电股份等企业； 半导体行业：需具备 SEMI 标准认证，且有晶圆厂供货经验。

曝光设备结构与自动化配置

接触式曝光：掩膜版与基板直接贴合，分辨率高但掩膜版易损耗，适合小批量打样。 非接触式曝光：接近式（间隙 5-50μm）：减少掩膜磨损，适合中大批量生产； 投影式（如扫描曝光）：无接触损耗，适合高精度连续生产（如 FPC 卷对卷工艺）。

曝光机从核心技术参数与工艺匹配需要考虑哪些因素

汞灯曝光机：光谱覆盖 300-450nm，光强高（≥100mW/cm²），适合厚膜光刻（如 PCB 阻焊层），但能耗高（单机功率 1-3kW）、寿命短（800-1500 小时）。 UV-LED 曝光机：单色光（如 365nm/395nm），能耗低（省电 30%-50%）、寿命长（20000 小时），适合高精度薄膜光刻（如半导体掩膜版），但光强均匀性要求更高。

硅胶行业的全新解决方案

在这个追求高效与品质并存的时代，正凯机电硅胶改质机以它的智慧与创新，为硅胶行业带来了全新的解决方案！