接触式曝光：掩膜版与基板直接贴合，分辨率高但掩膜版易损耗，适合小批量打样。 非接触式曝光：接近式（间隙 5-50μm）：减少掩膜磨损，适合中大批量生产； 投影式（如扫描曝光）：无接触损耗，适合高精度连续生产（如 FPC 卷对卷工艺）。

汞灯曝光机：光谱覆盖 300-450nm，光强高（≥100mW/cm²），适合厚膜光刻（如 PCB 阻焊层），但能耗高（单机功率 1-3kW）、寿命短（800-1500 小时）。 UV-LED 曝光机：单色光（如 365nm/395nm），能耗低（省电 30%-50%）、寿命长（20000 小时），适合高精度薄膜光刻（如半导体掩膜版），但光强均匀性要求更高。

在这个追求高效与品质并存的时代，正凯机电硅胶改质机以它的智慧与创新，为硅胶行业带来了全新的解决方案！

东莞市进行产业升级对正凯机电的影响是深远的，主要体现在以下几个方面： 首先，产业升级有助于提升我们公司的竞争力。随着全球化和市场竞争的加剧，传统制造业面临越来越多的挑战。通过产业升级，我们公司需要提高生产效率、降低成本，从而提升产品质量和市场竞争力。

在这个快速发展的时代，如何提高生产效率、降低成本已成为各行业的共同追求。为了满足客户对玻璃双面覆膜的新需求，正凯机电隆重推出ZKFM-600-2分片覆膜裁切机，以其的性能和高效的生产能力，为客户的生产线注入新的活力！

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