控温范围广：常规工业烤箱温度范围为室温～300℃，高温型可达 500℃以上（如陶瓷烧结用烤箱），满足不同材料的热处理需求。

汞灯机型需配备 UV 防护罩（紫外线泄漏≤1μW/cm²）； 溶剂型光刻胶曝光时需加装废气处理装置（VOCs 去除率≥90%）。

优先选择在目标领域有成熟案例的供应商： PCB 行业：考察是否供应过深南电路、沪电股份等企业； 半导体行业：需具备 SEMI 标准认证，且有晶圆厂供货经验。

接触式曝光：掩膜版与基板直接贴合，分辨率高但掩膜版易损耗，适合小批量打样。 非接触式曝光：接近式（间隙 5-50μm）：减少掩膜磨损，适合中大批量生产； 投影式（如扫描曝光）：无接触损耗，适合高精度连续生产（如 FPC 卷对卷工艺）。

汞灯曝光机：光谱覆盖 300-450nm，光强高（≥100mW/cm²），适合厚膜光刻（如 PCB 阻焊层），但能耗高（单机功率 1-3kW）、寿命短（800-1500 小时）。 UV-LED 曝光机：单色光（如 365nm/395nm），能耗低（省电 30%-50%）、寿命长（20000 小时），适合高精度薄膜光刻（如半导体掩膜版），但光强均匀性要求更高。

要求厂家用实际材料进行固化测试，验证： 固化后硬度（邵氏硬度计）、附着力（百格测试）； 外观效果（是否发黄、开裂）；